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反光特性:對于反光強烈的電子芯片,應選擇能夠減少反光影響的光源.同軸光源能夠提供明亮背景上的黑色特征,適合反光厲害的平面物體檢測,能夠加強有差異角度的表面特征,增強表面紋理(劃痕、凹陷、壓印),減少陰影。
缺陷檢測:如果檢測目標是芯片表面的微小缺陷,如劃痕或破損,可以選擇高亮點光源,這種光源提供高亮度、高均勻性,有助于清晰呈現(xiàn)芯片輪廓
特征識別:對于需要識別芯片上的二維碼或字符,同軸光源能夠對反光平面成像均勻,亮度高,兼容多種特征識別.
對位和測量:晶圓視覺對位可能需要組合光源,利用圓頂光源凸顯定位特征點,使用同軸光源補光,解決暗影區(qū),組合光源的均勻性好,結構架設方便.
光源的均勻性:光源的均勻性要好,在有效的照射范圍內,灰度值標準差要小.
光譜范圍:具有較寬的光譜范圍,可以對不同材料的物體進行檢測.
光照強度:光照強度要足夠,提高信噪比,利于圖像處理.
使用壽命及穩(wěn)定性:具有較長的使用壽命及較高的穩(wěn)定性,保障光源在長時間運行狀態(tài)下能夠持續(xù)穩(wěn)定的提供照明環(huán)境.
成本效益:選擇成本低,易根據(jù)現(xiàn)場情況定制特殊形狀光源.
特定波長需求:某些檢測可能需要特定波長的光源,如UV-LED點光源適用于晶圓曝光和光刻工藝.