光源移動對干涉條紋的影響,光源移動光速會變嗎

本文目錄一覽：

• 1、楊氏雙縫干涉光源下移零級條紋的變化
• 2、雙縫干涉實驗中，光源上下移動時，干涉條紋如何變化？
• 3、楊氏雙縫干涉實驗中，光源上下移動條紋間距不變，但條紋的位置會改變，那么光源左右移動時怎么變化呢？

楊氏雙縫干涉光源下移零級條紋的變化

我想應該不移動，如果你指的是沿縫的方向移動。因為這種移動并不能改變單縫到兩個雙衡鎮(zhèn)縫的光程差，所以中央極大點以及各處極大不會左右移動。而干涉的本質(zhì)是用單縫到雙縫的距離相同使雙縫成為兩個相干光源，上下移動單縫，從雙縫上來看只不過是使雙縫的亮度下降渣攔睜了，所以干涉條紋亮度會下降，不會使干涉區(qū)域向相反的方如歲向上下移動。這是我的想法不知道對不對。

雙縫干涉實驗中，光源上下移動時，干涉條紋如何變化？

楊氏雙縫干涉實驗中，光源上培春備下移動時，干涉條紋下上移動（移動方向與前者的相反）。

干擾必須第一相干光繞過障礙物（事實上，衍射），然后相互疊加，形成了光與暗的條紋。

雙縫垂直，水平方向上，體積小，容易繞過去的光（衍射），位于左，右兩側(cè);每個接縫，而垂直方向上的大小，是不容易的光繞過去，所以沒有光上下。最終，每一個垂直縫左右兩側(cè)的光彼此疊加，形成明暗相間條紋，性質(zhì)和平行的接縫。

擴展資料：

假若光束是由經(jīng)典粒子組成，將光束照射于一條狹縫，通過狹縫后，沖擊于探測屏，則在探射屏應該會觀察到對應于狹縫尺寸與形狀的圖樣?？墒牵僭O(shè)實際進行這單縫實驗，探測屏森啟會顯示出衍射圖樣，光束會被展開，狹縫越狹窄，則展開角度越大。在探測屏會顯示出，在中央?yún)^(qū)域有一塊比較明亮的配毀光帶，旁邊襯托著兩塊比較暗淡的光帶。

參考資料來源：百度百科-雙縫實驗

楊氏雙縫干涉實驗中，光源上下移動條紋間距不變，但條紋的位置會改變，那么光源左右移動時怎么變化呢？

理論來侍做講，雙縫實驗中兩個縫便會模擬出兩個點波源，其干涉圖像只和波長以及縫間距相關(guān)。實際操作中，光源上下移動或許會讓其中一個縫比另一個閉笑縫的光更強，從而導致條紋位置有一點偏移，而左轎談含右移動時應該只會讓亮斑更亮一些而已。理想的光源永遠應該是距離無限遠，產(chǎn)生理想橫波的超大光源才對。